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      光譜純石墨內(nèi)坩堝的應(yīng)用領(lǐng)域

      發(fā)布作者:jcadmin      發(fā)布時間:2025年06月30日

      光譜純石墨內(nèi)坩堝的應(yīng)用領(lǐng)域
      高純度要求場合:光譜純石墨內(nèi)坩堝更適用于需求高純度金屬或合金的場合,如精密儀器、航空航天、電子工業(yè)等領(lǐng)域。在這些領(lǐng)域中,對金屬或合金的純度要求極高,任何微小的污染都可能影響產(chǎn)品的功能和質(zhì)量。
      綜上所述,光譜純石墨內(nèi)坩堝的工作原理主要根據(jù)其高純度、高溫穩(wěn)定性、化學(xué)穩(wěn)定性以及密封性和光滑性等特性。這些特性使得光譜純石墨內(nèi)坩堝在需求高純度金屬或合金的場合中具有不可代替的優(yōu)勢。

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      光譜純石墨內(nèi)坩堝